F4 / Desno

TEHNOLOGIJA POVRŠIN — F4

Odsečne spletne strani

Vodja odseka
prof. dr. Alenka Vesel, alenka.vesel@ijs.si
Telefon: (01) 477 35 02

Tajništvo
f4@ijs.si

Plazemski viri

Z nizko tlačnimi in atmosferskimi razelektritvami generiramo plazme z zaželenimi karakteristikami. V Odseku smo se specializirali v brez elektrodne radio frekvenčne in mikrovalovne razelektritve.

Karakterizacija plazme

Optične emisijske in absorpcijske tehnike, masna spektroskopija, električne in katalitične sonde uporabljamo za karakterizacijo razelektritvenega in po-razelektritvenega dela plazme. V Odseku smo razvili izvirno verzijo katalitične sonde za meritev prostorske porazdelitve nevtralnih radikalov.

Plazemske tehnologije

Plazemsko čiščenje (odstranjevanje organskih in anorganskih nečistoč z dvodimenzionalnih ali trodimenzionalnih površin objektov), selektivno plazemsko jedkanje kompozitnih materialov, aktivacije in pasivacije polimerov in polimernih kompozitov, plazemska bio medicina (kardiovaskularni implantati, povoji za rane, sterilizacija, diagnostične metode), plazemska nano znanost (kvantne pike, nano žičke, nano kompoziti, kompleksne nano strukture).

Površine, vmesne plasti in tanke plasti

Bazična in aplikativna znanost o površinah, karakterizacija površin s ToF SIMS, XPS, AES in AFM tehnikami, globinsko profiliranje, reakcije na površinah in vmesnih plasteh, mikroanalize, strukturne modifikacije in modifikacije sestave trdnih materialov po obdelavi z energetskimi ioni.

Vakuumska znanost in aplikacije

Metode za vzdrževanje različnih stopenj vakuuma, vakuumska metrologija, adsorpcija, desorpcija in permeacija plinov skozi trdno snov, vakuumska optoelektronika, razvijanje vakuumskih naprav in komponent: katodne cevi, izolacijski paneli in vakuumski elementi izdelani po naročilu.